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    產品中心您的位置:網站首頁 > 產品中心 > 半導體耗材 > 光刻膠 > PR1-500A紫外正性光刻膠

    紫外正性光刻膠

    更新時間:2022-10-12

    訪問量:265

    廠商性質:代理商

    生產地址:國外

    簡要描述:
    紫外正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的粘附性、化學抗蝕性,當沒有溶解抑制劑存在時,線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中,感光劑是光敏化合物,最常見的是重氮萘醌(DNQ)。
    品牌其他品牌供貨周期一周
    應用領域環保,化工,能源,電子,航天

    一、紫外正性光刻膠簡介:

    正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的粘附性、化學抗蝕性,當沒有溶解抑制劑存在時,線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中,感光劑是光敏化合物,最常見的是重氮萘醌(DNQ)。在曝光前,DNQ是一種強烈的溶解抑制劑,降低樹脂的溶解速度。在紫外曝光后,DNQ在光刻膠中化學分解,成為溶解度增強劑,大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種曝光反應會在DNQ中產生羧酸,它在顯影液中溶解度很高。正性光刻膠具有很好的對比度,所以生成的圖形具有良好的分辨率。


    二、紫外正性光刻膠產品清單:

    品牌
    產地型號厚度耐熱溫度應用
    Futurrex美國PR1-500A0.4μm~0.9μm耐熱溫度=110 ℃



    濕刻、反應離子束刻蝕、
    離子植入、電鍍
    PR1-1000A0.7μm~2.0μm
    PR1-1500A1.3μm~3.0μm
    PR1-2000A1.7μm~4.0μm
    PR1-4000A3.7μm~10.0μm
    PR1-12000A10.0μm~25.0μm
    Micro Resist德國ma-P 1200系列0.5~50μm膠厚
    非常適合作為刻蝕掩??垢煽?、濕刻性能;

    優異的電鍍性能(酸和堿性鍍液中*的穩定性)光刻膠圖案良好的熱穩定性;

    堿性水溶液下顯影;
    寬帶、g或i線曝光;


















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